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產(chǎn)品資料
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
簡(jiǎn)介：

Trion創(chuàng)建于1989年,是一家反應(yīng)離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商 Trion為化合物半導(dǎo)體、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場(chǎng)提供多種設(shè)備。 產(chǎn)品占地面積小、成本低，可靠穩(wěn)定。
產(chǎn)品詳情

Phantom III反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)

可適用于單個(gè)基片、碎片或帶承片盤的基片300mm尺寸，為實(shí)驗(yàn)室和試制線生產(chǎn)提供可靠的等離子刻蝕能力。

系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕氮化物、氧化物以及需要氟基化學(xué)刻蝕的薄膜或基片（如碳、環(huán)氧樹脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、聚酰亞胺、石英、硅、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢以及鎢鈦）。該設(shè)備還可以用于去除光刻膠和有機(jī)材料。可選配靜電吸盤(E-chuck)，以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。
該工具可選配一個(gè)電感耦合等離子(ICP)源。ICP使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能
通過打開室蓋，直接將基片裝入工藝室
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